高純六氟化硫氣體是我國科研、生產(chǎn)等許多部門急需的特種氣休,在半導(dǎo)體工業(yè)巾用于等離子蝕刻工藝,在光導(dǎo)纖維制造中用作隔離層摻雜劑。高純SF6氣體還是重要的激光材料,在其它領(lǐng)域也有重要用途。

　　另外，高純六氟化硫在常溫常壓下呈氣態(tài)，裝瓶后為高壓液體。無色、無臭、無毒、不燃。具有良好的化學(xué)穩(wěn)定性和熱穩(wěn)定性。

　　高純六氟化硫主要用于半導(dǎo)體工業(yè)中作清洗氣體。六氟化硫的成本只有NF3的幾分之一，近年來，各公司以廉價(jià)的SF6取代以往CVD工藝中作為清洗氣體的NF3的新技術(shù)正被廣泛研究。

　　該技術(shù)在大幅降低液晶產(chǎn)品加工中占相當(dāng)比例的CVD氣體成本的同時(shí)，還顯示出了***的環(huán)保前景，近年來用量有明顯的提高。

　　由此可見，近年來,黎明六氟化硫在許多生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域中,越來越顯示出它的重要性。高純六氟化硫(純度在99.99%以上)，國內(nèi)需求非常旺盛，而且附加值較高。

文章內(nèi)容來源于高純六氟化硫：www.princeton-solutions.com/